Een PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) systeem brengt met behulp van plasma een dunne laag op een basismateriaal aan. Dit proces wordt onder meer toegepast bij de productie van chips en halfgeleiders, maar ook in de solar industrie. De opdrachtgever vraagt ons een complex systeem te realiseren, met waterkoeling, vacuümtechniek, E-panelen, software, I/O en hoogspanningstesten. De uitdaging gaat echter nog verder. Met een doorlooptijd van 14 weken per systeem, dienen we wekelijks een systeem uit te leveren. Te beginnen met niet meer dan een TPD op protoniveau. Lees verder