ASML bevestigde medio april, bij de presentatie van de cijfers over het eerste kwartaal, dat naar verwachting in de tweede helft van dit jaar de NXE:3400C beschikbaar komt, een EUV-chipproductiemachine die 170 wafers per uur produceert. Die snelheid zal, zo wordt in de markt verwacht, de komende jaren verder worden opgevoerd. Dat is fijn, maar het betekent wel dat de eisen aan de inspectietechnieken, om de kwaliteit van die wafers te checken, navenant toenemen. Hetzelfde geldt voor de technologieën om de vervuiling van deze hoogst gevoelige machines te beheersen. Onderzoek van TNO draagt bij aan het verhogen van de yield en het verlagen van de operationele kosten van EUV-lithografie. Lees verder [Bron: linkmagazine, Foto: Com-magz]