Deze week, op de 2024 2024 Advanced Lithography + Patterning Conference, presenteert imec, een wereldwijd toonaangevend onderzoeks- en innovatiecentrum in nano-elektronica en digitale technologieën, de vooruitgang die geboekt is in EUV-processen, maskers en metrologie die voorbereid zijn om extreme ultraviolet (EUV) lithografie met hoge numerieke apertuur (High-NA) mogelijk te maken. De belangrijkste verwezenlijkingen worden gerapporteerd op het vlak van resistentie- en onderlaagontwikkeling, maskerverbetering, optische nabijheidscorrectie (OPC), veld stitching met hoge resolutie, vermindering van stochastische fouten en verbeterde metrologie en inspectie. Met deze resultaten toont imec aan dat het klaar is om de EUV-processen over te brengen naar het gezamenlijke imec-ASML High-NA EUV Lab, gebouwd rond het eerste prototype van de High-NA EUV-scanner. Lees verder [Bron: linkmagazine.nl]