De nieuwste chipmachine die ASML na 2020 uitbrengt wordt in volume bijna twee keer zo groot als de machines die werken met extreem ultraviolet (EUV) licht die nu worden geproduceerd. Dat blijkt uit een presentatie die ASML gaf tijdens de SPIE lithografie conferentie in San Jose in de Verenigde Staten, die donderdag eindigde. Lees meer [Bron: ed.nl]