Hoe minder de spiegels in de chipproductiemachines van ASML het kostbare extreem ultraviolet (euv) licht absorberen, hoe succesvoller de euv-lithografie zal zijn. Spiegelfabrikant Zeiss heeft dan ook alle belang bij de EBL2 (Extreme Ultra Violet Belichtings- en analysefaciliteit 2) die TNO volgende maand in gebruik neemt. Om daarmee die spiegels te testen. Daarnaast zullen andere partijen uit de wereldwijde semiconketen zich voor testwerk melden in Delft. Lees meer [Bron: linkmagazine]